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半导体前道晶圆图形缺陷检测设备(Spark 100)
前道图形晶圆缺陷检测设备广泛应用于半导体前道光刻、刻蚀、研磨等工艺后各类表面图形缺陷的快速检查与分类是芯片制造过程中的核心检测设备之一。 SPARK100系列前道图形晶圆缺陷检测设备集成了分辨率光学成像系统、先进的图像处理系统,以及基于AI算法的缺陷分类系统,在缺陷检测灵敏度(sensitivity)、通量(throughput)等主要性能参数与国际上同类产品基本持平。
支持多种工作模式,在高亮脉冲照明系统和精密运动控制技术的配合下,可实现不同灵敏度的高速、高质量的图像数据采集与处理过程,在标准化与接口方面,设备符合SEMI(国际半导体产业协会)标准,可提供标准的EAP接口协议,支持AMHS自动物料系统(AGV/OHT),满足产线的柔性生产需求。
设备特点/优势

支持多种工作模式,满足客户个性化需求

检测模式:黑白/彩色通道切换或复用
复检模式:黑白/彩色通道切换或复用
物镜配置:2X\5X\10X\20X\50X(Option)
明场模式:白,红,绿,蓝切换
暗场模式:根据需要搭配
偏光模式/3D增强模式/自动对焦
支持多种Map图谱格式,兼容SECS/GEM接口协议
0.25um高分辨率,检测重复性高达99%
应用场景
晶圆宏观缺陷检在前道晶圆制程过程中的应用
光刻
ADI
光刻后显影检
刻蚀
AEI
刻蚀后检
研磨
API
研磨后检
出货
OQA
出货检